产品介绍：PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜

产品介绍：卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备（PECVD），并加装了收放卷装置

产品介绍：该产品是由射频电源、气体质子流量控制系统、衬底控温系统、真空系统组成，适用于室温至1200℃条件下进行SiO2、SiNx薄膜的沉积，同时可实现TEOS...

产品描述：KJ-T1200PECVD是一种PECVD（等离子体增强化学气相沉积）的管式炉系统，它由500W射频电源、带有200毫米直径石英管的可拆分管式炉、真空...

产品介绍：等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜技术生长的一种系的制备技术

产品介绍：KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制备机是由KJ-T1200开启式滑轨管式炉、真空系统、质量流量计气路系统、等离子电源系统组成

KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混气管式PECVD系统，由KJ-T1200单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成

产品用途：PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜

产品介绍:六通道高真空PECVD系统是一款由1200度管式炉，等离子射频电源，分子泵高真空，六通道气路等组成的等离子化学气相沉积系统，加热腔体采用氧化铝纤维制品...

产品介绍：滑道式PECVD系统由PT-1200T管式炉加热系统、真空系统、质量流量计供气系统、等离子射频电源系统组成

产品介绍：该设备是一款带有预热系统的滑动PECVD系统